X射線光電子能譜儀

PHI GENESIS X射線光電子能譜儀 優勢特點：

上市時間：2022年
1、譜學性能提升

- 使用微聚焦掃描 X 射線源進行小面積和大面積分析時具有更高靈敏度

2、新功能！大面積成像分析

- 掃描X射線影像（SXI）功能增加樣品臺驅動功能，用于大面積分析導航

- 增加大面積化學態影像及疊加分析功能

3、高性能深度剖析

-適用于各種有機、無機和混合材料的多種離子槍配置

-先進的薄膜結構分析軟件

4、可靠的自動化和遠程操作

-高度可配置的序列系統，讓分析過程自動化和效率更高

-可*遠程操作和遠程診斷

5、更環保、現代化的配置

- 高效節能、快速真空獲取和符合人體工程學的設計。

PHI GENESIS X射線光電子能譜儀關鍵技術

• 從小面積到大面積的高靈敏度分析。

• excellent的深度剖析表現。

• 自動電荷雙束中和技術。

• 自動化和遠程控制，提供靈活的工作環境。

• 多樣化的配置。

1、微聚焦的掃描X射線源

全新設計的高靈敏度和低噪音能量分析器

作為一種重要的表面分析方法，廣泛應用于固體材料表面的元素組分和化學態的研究，例如電池材料、催化劑、集成電路、半導體、金屬、聚合物、陶瓷和玻璃等，可滿足從研發到失效分析的廣泛分析需求。

采用了全新設計的高靈敏度分析器，靈敏度是上一代的2倍，具有更低的檢測限，能夠實現從微區(<10>1 mm)的高靈敏度化學態分析。

微聚焦掃描X射線和 SXI影像，通過類似SEM的SXI影像可以作為樣品導航，實現精準地定義微區分析位置。

SXI: 掃描X射線激發的二次電子影像

2、excellent的深度剖析表現

使用微區XPS分析技術進行準確的深度剖析

PHI GENESIS 的高靈敏度微區分析和高度可重現的中和性能確保了深度分析的excellent性能。樣品傾斜和樣品旋轉相結合，可同時實現高深度分辨率和高能量精度。

3、自動電荷雙束中和技術

無需參數調整即可滿足任何絕緣樣品微區分析的荷電中和需求

PHI GENESIS 配備了自動中和技術，無需分別對每個待測樣品進行中和參數調整。自動中和采用低能量電子束和低能量離子束的雙束同時中和的技術，實現了簡單可靠的高效中和。

該技術適用于中和各種材料，配合操作軟件所提供的圖像配準功能，可為微區分析帶來excellent的自動化操作體驗。對于無機/有機混合材料以及從微區到大面積的所有分析尺寸，均可以進行可靠且自動化的檢測分析。